三維激光直寫光刻機(jī)提供豎直和掃描直寫模式，確保直接軌跡偏離小于100nm，具有電動光學(xué)聚焦系統(tǒng)，提供快速的聚焦功能，從而適合各種厚度襯底的要求，并具有晶圓裝載和卸載系統(tǒng)裝備到襯底室供客戶選配，增強(qiáng)清潔程度，提高工作量和用戶安全程度。激光直寫不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高書寫速度和低成本的特點(diǎn)。

　　三維激光直寫多個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光，之后自動切換高分辨激光，并對需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了好的平衡，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。激光直寫內(nèi)置自動對焦系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)基片臺在Z方向的位置，對基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動對焦。只需單擊軟件上的對焦鍵就能完成對新放入的基片對焦。

　　三維激光直寫簡介：

　　傳統(tǒng)的光刻工藝中一般使用鉻玻璃掩模板進(jìn)行圖案的曝光轉(zhuǎn)移，鉻玻璃掩模板需要定制加工，若調(diào)整圖案就要重新加工。在科研過程中，掩模版圖案的形狀、尺寸經(jīng)常需要調(diào)整，而無掩模激光直寫技術(shù)使用LayoutEditor、L-Edit、AutoCAD等軟件設(shè)計(jì)的電子掩模版，通過電腦控制激光掃描，不需要物理掩模板即可在光刻膠上繪出所要的圖案，完成圖案的曝光轉(zhuǎn)移，極大地提升了科研效率。

　　三維激光直寫主要性能參數(shù)：

　　（1）采用405 nm激光光源，適用于大部分光刻膠產(chǎn)品。

　　（2）該系統(tǒng)通過光聚焦或氣聚焦自動對焦到樣品表面，可保證曝光分辨率。通過自動對焦可以識別樣品尺寸并進(jìn)行圖案的傾斜校正。

　　（3）該系統(tǒng)參數(shù)控制靈活，可以通過設(shè)置激光曝光能量（Dose）和聚焦度（Defocus）序列來快速確定最佳曝光參數(shù)。

　　（4）該系統(tǒng)可靠性高，擁有高直寫速度（≥10 cm?/min），高圖形分辨率（≤1μm）、高套刻精度（≤500 nm）的特點(diǎn)。

　　（5）該系統(tǒng)支持GDSⅡ、CIF、DXF、Geber (RS-274X) 等圖形格式。